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le vendredi 26 juin à 14h
Palaiseau
Prof. Haruo SHINDO (Japan) - 2M long line plasma production by microwave in a narrowed rectangular waveguide (Salle de conférence du CPHT, Palaiseau)
Long line-shaped plasmas are inevitable in material processing in manufacturing industries, such as solar cell film CVD, flat panel displays (FPDs), and various surface modification of large-area thin films. In this work, a newly proposed method of large-scaled line plasma production is studied. In this method, microwave power of frequency of 2.45 GHz in a narrowed and flattened rectangular waveguide is employed to produce a long uniform line plasma. Since the width of waveguide is very close to the cutoff condition, the wavelength of microwave inside the guide is very much lengthened, providing a condition of long line plasma with a great uniformity...
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