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Le jeudi 14 janvier 2010 à 11h

Caroline Boisse-Laporte (LPGP)

le jeudi 14 janvier à 11h, Salle de conférence du LIX Ecole Polytechnique

Depuis le début des années 2000, le laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas a développé de nouveaux procédés pour disposer de plasmas froids à degré d’ionisation élevé : l’IPVD (Ionised Physical Vapor Deposition) et le HPPMS (High Power Pulsed Magnetron Sputtering). Ces procédés sont des améliorations du procédé de pulvérisation cathodique magnétron développé depuis les années 1970, la PVD (Physical Vapor Deposition).

L’IPVD consiste en l’ajout d’un plasma annexe pour l’ionisation de la vapeur pulvérisée du magnétron.

L’HPPMS, consiste à alimenter le magnétron en impulsions de très forte puissance instantanée pour ioniser la vapeur en même temps qu’elle est pulvérisée.
Ces procédés ont un fort potentiel applicatif pour le dépôt de couches minces. Ils permettent de disposer de suffisamment d’ions pour :
-  contrôler la conformité (recouvrement) du dépôt par polarisation du substrat (application aux dépôts 3D, vias et tranchées)
-  améliorer la qualité du film mince
-  ajuster le flux d’énergie par particule arrivant sur le substrat.

Dans un premier temps, la présentation portera sur la caractérisation expérimentale des trois procédés (PVD, IPVD et HPPMS) en terme d’ionisation de la vapeur pulvérisée ou de flux de particules, obtenue par spectroscopie optique, et par absorption et fluorescence induite par diodes laser.
Dans un deuxième temps, la présentation portera sur l’utilisation du procédé IPVD-RF comme alternative au dépôt par voie humide de matériaux métalliques sur polymères. L’exposé portera sur l’utilisation de ce procédé pour le dépôt 3D de cuivre sur polymère massif de forme complexe. De nombreux résultats expérimentaux de caractérisation du plasma et des surfaces seront présentés en vue de dégager les différents paramètres du plasma (gaz, pression, mode de fonctionnement (PVD, IPVD), puissance, polarisation, ....) pour un dépôt adhérent, conforme et satisfaisant aux propriétés recherchées, en particulier de conduction électrique.


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